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绝缘层,其不增加颗粒的尺寸,将所述施主衬底的一部分,从而避免转印基板之后遍历缺陷的产生之前被形成。该过程允许以廉价的硅绝缘体上半导体衬底的形成。

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隔热层,它不增加尺寸的颗粒组成,是一部分的转接前的捐助国的基材,因此避免了一代的遍历后,将有缺陷的基板。 这一过程允许成立一个硅绝缘体半导体基板的一个廉宜的方式。

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隔热层,不会不增加颗粒的大小,是在转移的捐助基体,从而避免代的遍历后转移基体缺损部分之前形成的。该进程允许绝缘体上硅半导体基片表面的形成以廉价的方式。

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绝缘层,不增加微粒的大小,在转移施主基体的部分前被形成,因而避免横断的一代在转移基体以后背叛。过程允许一个绝缘体上硅薄膜半导体基体的形成以低廉方式。

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绝缘层,不增加微粒的大小,在转移施主基体的部分之前被形成,因而避免横断的世代在转移基体以后背叛。 过程允许一个硅在绝缘体半导体基体的形成以低廉方式。
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